光學(xué)薄膜是所有光學(xué)器件不可或缺的功能材料,沒有高質(zhì)量的光學(xué)薄膜,光學(xué)儀器甚至無法使用。由于溶膠-凝膠膜具有耐激光損傷閾值高的突出優(yōu)點,經(jīng)過二十多年的發(fā)展,溶膠-凝膠化學(xué)法成為了高能量激光器光學(xué)系統(tǒng)的首選鍍膜方法。
傳統(tǒng)物理法與溶膠凝膠化學(xué)法
傳統(tǒng)的光學(xué)薄膜制備方法是以物理氣相沉積(PVD)為核心的一系列物理方法,已有一百多年的發(fā)展歷史,其理論、設(shè)備、軟件均已非常成熟,市場占有率大。物理法鍍膜精度高,適合小口徑平面元件多層鍍膜,設(shè)備投資大,維護費用高,是重資產(chǎn)項目。
目前,物理法光學(xué)薄膜基本是一個封閉的技術(shù)領(lǐng)域,從科學(xué)的角度,學(xué)術(shù)外延不廣。而化學(xué)法光學(xué)薄膜得益于納米材料和新能源技術(shù)的迅猛發(fā)展,正面臨源源不斷的新需求和新挑戰(zhàn),潛力巨大,是一個值得大力投入的方向。
化學(xué)法分為化學(xué)氣相沉積和液相外延兩種。理論上,化學(xué)氣相沉積法可以做到的薄膜,液相外延法均可以做到。液相外延法主要指溶膠凝膠法(Sol-Gel):將光學(xué)基片以某種方式與預(yù)配好的鍍膜液(膠體或溶液)接觸并漸次通過液體區(qū),利用溶劑揮發(fā)速度和液體流動速度的匹配,在基片表面形成一層不能夠流動的沉積層。
溶膠凝膠法鍍膜精度不如物理法,但適合大口徑平面或異形元件鍍膜,設(shè)備投資少,維護費用低,是輕資產(chǎn)人才密集型項目。溶膠凝膠法與物理法二者互為補充,各有優(yōu)缺點,一旦結(jié)合,可能創(chuàng)新出性能優(yōu)越、單一方法難以制備的薄膜材料。
溶膠凝膠化學(xué)法成為首選
溶膠凝膠化學(xué)是古老的膠體化學(xué)的一個現(xiàn)代分支。自從幾十年前有機硅醇鹽的誕生以來,以二氧化硅顆粒的硅醇鹽路線合成為起始和代表的溶膠-凝膠化學(xué)把古老的膠體化學(xué)推動到了嶄新的發(fā)展階段,溶膠-凝膠化學(xué)就此展開其眾多的研究分支和豐富多彩的應(yīng)用領(lǐng)域。
溶膠本身包含“由溶液到膠體”的意思,即從單相的溶液體系通過一定的化學(xué)反應(yīng)逐漸生成膠體粒子,從而形成膠體分散體系,如果化學(xué)反應(yīng)持續(xù)進行,膠體粒子就會不斷長大直至溶膠失去流動性形成凝膠,或者,通過外加干涉的辦法強行凝膠化,這就是制備光學(xué)薄膜所采用的路線。
雖然溶膠-凝膠化學(xué)是一個應(yīng)用性很強的研究領(lǐng)域,但鑒于其化學(xué)基礎(chǔ)研究涉及溶液中的化學(xué)反應(yīng)動力學(xué)、膠體成核理論、膠體粒子生長理論以及多相體系的化學(xué)反應(yīng),是一個相當復(fù)雜的過程,同時由于膠體粒子尺寸處于納米尺度,在微觀結(jié)構(gòu)表征方面也存在相當?shù)碾y度,所以研究溶膠-凝膠化學(xué)基礎(chǔ)又是極有挑戰(zhàn)性的工作。
溶膠-凝膠法用于鍍制光學(xué)薄膜最早出現(xiàn)在上世紀六十年代末,St?ber等人利用TEOS在乙醇溶劑中在氨水催化下的水解和縮聚制備了球型單分散的SiO2顆粒,并由此制備了第一個減反射膜。之后不久,1969年,Schroeder就單層和多層溶膠-凝膠薄膜發(fā)展了一套薄膜物理。在1994年的《Laser Focus World》第九期,Thomas V. Higgins發(fā)表了一篇關(guān)于光學(xué)薄膜及薄膜光學(xué)的簡單回顧。從Fresnel提出著名的物理光學(xué)Fresnel方程,到Maxwell提出電磁理論,Lorentz提出電磁輻射的偶極模型,直至William T. Doyle把Fresnel方程用電磁場理論重新表達,薄膜光學(xué)形成了統(tǒng)一的理論體系。但此時,溶膠凝膠法在光學(xué)薄膜領(lǐng)域并未占有多少分量。
隨著高能量激光器的出現(xiàn),同時對高功率超短脈沖激光的追求,相關(guān)激光物理現(xiàn)象的研究也需要更高能量的激光,而高能量激光具有極大的破壞力,因此對光學(xué)元件耐激光損傷能力的提高就非常迫切。物理法制備薄膜最大的缺點就是抗激光損傷能力差,這極大地限制了其在高能量激光器光學(xué)元件上的應(yīng)用,此時溶膠-凝膠法鍍膜作為一種可能的替代技術(shù)獲得了較大發(fā)展。溶膠-凝膠法成為高能量激光器光學(xué)系統(tǒng)的首選鍍膜方法。
溶膠凝膠法鍍膜工藝
作為液相外延法,溶膠凝膠鍍膜可以使用多種鍍膜工藝,包括提拉法(dip-coating)、旋涂法(spin-coating)、噴涂法(spray-coating)、彎月面法(meniscus-coating)等方法。無論采取哪種鍍制技術(shù),薄膜的成膜機理是一致的,在制備過程中要嚴格控制沉積參數(shù)和環(huán)境條件。
由左至右依次為:噴涂法、彎月面法、旋涂法、提拉法示意圖
具體鍍制方法的選擇主要取決于基底尺寸及其幾何形狀、鍍膜要求(單面或雙面)、鍍膜成本以及前驅(qū)溶膠的壽命等:
彎月面法需要的溶膠量較少,適合中等尺寸平面基片上沉積單面多層薄膜或者雙面異質(zhì)薄膜,沒有重力對流體的影響,鍍膜均勻性非常好。
旋涂法通過改變轉(zhuǎn)速來控制膜厚,需要的溶膠量最少,但只能獲得單面薄膜,適用于小尺寸元件鍍膜。
提拉法溶膠用量較大,對于形狀不規(guī)則或大面積基片雙面鍍膜具有較強的適應(yīng)性,通過改變提拉速度可以調(diào)節(jié)薄膜的厚度。
從最早的硅醇鹽或金屬醇鹽水解的溶膠凝膠法開始,逐漸衍生出很多相關(guān)的濕化學(xué)方法,都可以用來制備光學(xué)薄膜,以適用于不同的要求。比如,非水體系溶膠凝膠法、水熱或溶劑熱法、溶膠-溶劑熱法、沉淀-重分散法等等。應(yīng)用這些方法可以制作品種繁多的光學(xué)薄膜,比如,非線性光學(xué)晶體保護膜,用于固體激光器的三波長減反膜,疏水疏油減反膜,用于無色差鏡頭的MgF2納米晶減反膜,用于光伏、光熱太陽能器件、平板顯示等的寬譜帶減反射膜,用于柔性顯示屏的有機無機雜化減反膜,VO2隔熱膜,高反膜等等。
作為一種只有五十年歷史的薄膜制備方法,以溶膠凝膠法為核心的液相外延法已經(jīng)在各行各業(yè)得到應(yīng)用,在光學(xué)薄膜領(lǐng)域的應(yīng)用也會越來越受到重視。可以展望,未來的柔性顯示技術(shù)、分布式光熱電站、手機顯示屏等很多設(shè)計光學(xué)性能要求的工業(yè)產(chǎn)品都需要化學(xué)法鍍膜。
(審核編輯: 林靜)
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