當(dāng)?shù)貢r(shí)間周一(4月11日)，芯片巨頭英特爾正式啟動(dòng)擴(kuò)建其位于美國俄勒岡州的D1X工廠，該公司將為此投資30億美元，旨在加速技術(shù)開發(fā)，以重新獲得芯片行業(yè)的領(lǐng)導(dǎo)地位。

據(jù)英特爾高級(jí)副總裁Sanjay Natarajan介紹，擴(kuò)建面積為27萬平方英尺，完成后將使D1X工廠的規(guī)模增加20%。

英特爾表示，這次升級(jí)將使該公司能用使用巨大的新型制造工具來生產(chǎn)先進(jìn)的芯片，之后將在英特爾在世界上的其他工廠復(fù)制這一模式。

英特爾的總部在硅谷，但自上世紀(jì)90年代以來，它最先進(jìn)的研究一直在俄勒岡州進(jìn)行。

據(jù)了解，英特爾的10nm制程晚了好幾年，這使得臺(tái)積電和三星電子等公司能提供比英特爾產(chǎn)品更好的外包生產(chǎn)。臺(tái)積電和三星電的客戶，例如英偉達(dá)和AMD，已推出更具競(jìng)爭力的產(chǎn)品并搶下市占，擠壓英特爾。

D1X-Mod3的主要工作實(shí)際上從去年8月份就開始了，其重大意義在于，為工廠增加了2.5萬平米的潔凈室空間，將D1X擴(kuò)大了20%，這便為最終足以搬進(jìn)ASML的下一代最先進(jìn)高數(shù)值孔徑（High NA）EUV光刻機(jī)TWINSCAN EXE:5200 EUV創(chuàng)造必要條件。

和服務(wù)Intel 3/4工藝的NXE 3000系列EUV光刻機(jī)相比，EXE 5200大了很多，突破了D1X原“天花板”。

為重新獲得芯片行業(yè)的領(lǐng)先地位，英特爾首席執(zhí)行官Pat Gelsinger此前承諾，該公司將投資800億美元在亞利桑那州和俄亥俄州以及德國建立新工廠，并將在芯片研究上再投資數(shù)十億美元。

英特爾的大規(guī)模投入固然激發(fā)了公司在技術(shù)領(lǐng)域獲得進(jìn)步的動(dòng)力，但卻讓投資者感到震驚，并打壓了公司股價(jià)。這家芯片制造商曾警告稱，在未來數(shù)年里，公司的利潤率都將受到限制。

英特爾希望美國和歐盟能賦予其巨額補(bǔ)貼，從而抵消部分支出。而美國總統(tǒng)拜登同樣希望扶持本土芯片制造業(yè)。

目前，美國國會(huì)兩黨對(duì)一項(xiàng)價(jià)值520億美元的芯片補(bǔ)貼法案已達(dá)成共識(shí)，但由于該法案被包括在另一項(xiàng)更廣泛的支出法案中，在國會(huì)被擱置了數(shù)月之久，原因是兩黨對(duì)眾議院版本中的部分條款存在分歧。國會(huì)上周為此成立了一個(gè)專門委員會(huì)，旨在解決分歧，為最終通過法案掃清道路。