溫度均一技術(shù)在SEMI勻膠顯影機(jī)上的應(yīng)用 | 打破技術(shù)壟斷,助力SEMI行業(yè)設(shè)備國產(chǎn)化進(jìn)程
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工藝介紹
涂膠顯影機(jī)是芯片制成光刻工藝段非常重要的設(shè)備,用于實(shí)現(xiàn)光刻膠的超薄膠膜。總共分為兩個(gè)步驟:一、涂膠工藝:通過膠頭將光刻膠滴到晶圓表面,真空吸盤吸住晶圓高速旋轉(zhuǎn)進(jìn)行勻膠。
二、均膠完成后進(jìn)行烘烤堅(jiān)膜,通過加熱盤使光刻膠中的有機(jī)溶劑揮發(fā),生成光刻膠的超薄膠膜。
課題
1. 升溫速度不統(tǒng)一以及溫差波動(dòng),
造成晶圓加熱不均
一旦加熱盤存在加熱不均的現(xiàn)象,可能使得光刻膠中的部分有機(jī)溶劑無法得到有效揮發(fā),影響最終生成的膠膜品質(zhì)。
2. 人工調(diào)盤,過程復(fù)雜,耗費(fèi)工時(shí)
解決方案
通過溫度均一控制技術(shù),
實(shí)現(xiàn)高精度的均勻加熱
通過優(yōu)化算法與MATLAB實(shí)現(xiàn)均勻加熱的自動(dòng)補(bǔ)償算法(我們稱之為溫度均一控制技術(shù)),使各分區(qū)控溫精度達(dá)到了±0.05℃,溫度均一性達(dá)到了R=0.275。
實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)表明,可將溫差控制為原有的1/5
調(diào)整時(shí)間僅需2秒,
完全替代人工調(diào)盤
只需簡單設(shè)定,即可實(shí)現(xiàn)整個(gè)空間或表面分布同一指定量。將原來需要人工調(diào)整的工作實(shí)現(xiàn)了全自動(dòng)化,大幅減少人件費(fèi)的投入,并降低了對熟練工的依賴。
控制系統(tǒng)
機(jī)械自動(dòng)化控制器 NJ / NX系列
NX系列 EtherCAT連接器單元
NX系列 溫度輸入單元
NX系列 數(shù)字輸出單元
實(shí)現(xiàn)價(jià)值
控溫精度:±0.05℃
溫度均一性:R=0.275,其中R=Tmax-Tmin。
調(diào)整時(shí)間:2秒
【經(jīng)營層】
■ 在整個(gè)SEMI行業(yè)激烈的競爭環(huán)境下,此次溫度均一控制技術(shù)在涂膠顯影機(jī)的應(yīng)用,打破了國外廠商的技術(shù)壟斷,助力企業(yè)進(jìn)一步提升行業(yè)地位。
【管理層】
■ 溫度控制精度的提升,完全建立在控制系統(tǒng)與程序的優(yōu)化,無需更改機(jī)械結(jié)構(gòu)和運(yùn)動(dòng)時(shí)間,導(dǎo)入時(shí)間更快且成本更低。
■ 通過優(yōu)化算法,使各分區(qū)控溫精度達(dá)到了±0.05℃,溫度均一性達(dá)到了R=0.275,大幅提升了設(shè)備的性能指標(biāo)與自動(dòng)化水平。
【工程師層】
■ 將原來需要人工調(diào)整的工作實(shí)現(xiàn)了全自動(dòng)化,工程師可以釋放雙手,從事更具創(chuàng)造性、挑戰(zhàn)性的工作。
■ 歐姆龍工程師全程參與指導(dǎo),后期項(xiàng)目調(diào)整,只需自行修改參數(shù)即可。
(審核編輯: 小王子)
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